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[资源] 虚拟仿真制作首选平台VEStudio2.2最新sp2

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发表于 2011-8-10 12:43:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
制作界面: y$ J7 u$ T( B) d" |
, x4 w8 H* ^8 w: R" f) |+ z
效果
4 F4 v; C$ x3 j% I' f7 @" R6 L/ Q9 B' ]1 G
真实反射& o* P$ D+ q# x& W

# ]2 j# }3 m1 u0 A  L- e9 `. I. @2 b4 T
   免费的专业虚拟仿真平台,它可以制作虚拟房产、旅游仿真、产品展示、城市规划等各类虚拟仿真交互系统。4 `: p1 T2 B  k

2 f- E+ O4 c' l' R& K" X$ z8 uSP2更新说明——
- u; I: s0 H' n% M3 T0 f& x增加:3 Z  h- t6 ~& a0 A
简易GUI节点、小地图、相机方位指示、摆放种植模块、材质测试模块、涂鸦场景模块【可以在演示场景的时候使用】、快照比对模块【可以实现类似不同方案比对的功能】、编辑功能脚本提供
" e& K% ]7 [) f# q' L* {9 ^修改列表:
; t5 F0 s2 M& A1、视点转换在任何导航模式下生效;
' ^2 z# {% E  c3 y3 D2、混合材质支持两层纹理的偏移凹凸,支持远处使用模糊的全局抽稀纹理;
! r) _5 D( P$ B$ ]# ^3、天体解除了程序雾效;
0 h+ c( i. j. _8 s. a1 Z4、解决了模型库相同纹理重复输出的BUG;
5 V) u' y. R! B7 ~& f5、提高模型库加载效率;: S1 U# r# c# X: Z% R7 x+ y
6、解决了克隆子节点位置不准确的BUG;
0 j5 W  {( h/ o: m: {5 Y  x- |7、场景管理支持折叠状态记忆以便更方便的编辑场景节点;
- K, ?/ n3 Q5 ~+ b) J6 y7 o+ E8、层操作、编辑功能脚本支持;
! J7 |2 _2 P- D& l, w; ?) E9、地板反射支持凹凸;" ]$ j3 N) U8 t
10、移除了编辑器点击右键也选中物体;4 G+ z% J) r, B3 _  ~5 ]7 q
11、纹理选择时使用了系统自带对话框,选择纹理不在工程目录会自动完成纹理复制;: V2 D  X- q* B0 C# I- S0 U6 i

, R$ Y! Y' @" t! D+ c注:必须先安装2.2正式版然后再安装本更新。$ a' n- K$ D6 N
. s1 ^, o- X- U4 Y' z
VEStudio2.2正式版下载:
9 W: e# E5 i* ghttp://www.vestudio.cn/data/VEStudio2.2正式版.exe ; s+ J( ], `" n* \
sp2下载:
3 }2 \" k) F2 n2 J$ @. E) ahttp://www.vestudio.cn/bbs/dispbbs.asp?boardid=2&Id=1544
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