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[资源] 虚拟仿真制作首选平台VEStudio2.2最新sp2

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发表于 2011-8-10 12:43:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
制作界面# C5 V) y/ z$ V$ n, ?1 L

' ~: Q- K. w1 E& }4 K效果
4 b  f, Q5 y. P# X" E0 s1 U# w( k2 S$ O1 ^7 K% R
真实反射" b/ c. R; H2 b' n6 x9 s

' `0 s) T) h# l# f# Q; J0 e; g& H
   免费的专业虚拟仿真平台,它可以制作虚拟房产、旅游仿真、产品展示、城市规划等各类虚拟仿真交互系统。
' _; A5 m4 B; _7 x* o7 D3 B+ _" T6 c" U# U
SP2更新说明——
8 r8 B- G$ X; ]6 @& p6 U2 [增加:; F5 k; a7 H8 _( B9 _  y. S
简易GUI节点、小地图、相机方位指示、摆放种植模块、材质测试模块、涂鸦场景模块【可以在演示场景的时候使用】、快照比对模块【可以实现类似不同方案比对的功能】、编辑功能脚本提供3 m1 U. h3 [+ T) R, D+ e5 v1 Q
修改列表:( G  ]- [. x. a, y& c, c  ?
1、视点转换在任何导航模式下生效;/ z5 }3 t. F0 n
2、混合材质支持两层纹理的偏移凹凸,支持远处使用模糊的全局抽稀纹理;6 J* I" B" S0 J
3、天体解除了程序雾效;
4 J. d6 x# j4 L9 ]1 a0 }4、解决了模型库相同纹理重复输出的BUG;7 ^# g4 B$ e, ?5 W' b1 o
5、提高模型库加载效率;
' D) X" C5 Q" ~% t# |+ {) b: Q2 k6、解决了克隆子节点位置不准确的BUG;& ~6 Y: V; s- r
7、场景管理支持折叠状态记忆以便更方便的编辑场景节点;* N  t% _: s/ K* j- }* i5 i# r' J
8、层操作、编辑功能脚本支持;, s) k) V1 Z* p+ A
9、地板反射支持凹凸;  ~6 i8 Q+ c9 Z. n5 m) X% Z
10、移除了编辑器点击右键也选中物体;7 `6 H5 p; U9 ]! n7 T
11、纹理选择时使用了系统自带对话框,选择纹理不在工程目录会自动完成纹理复制;7 I3 D. b1 Q9 |% V* k
1 C  H& U3 M& ]( D0 D, \& `; t
注:必须先安装2.2正式版然后再安装本更新。
( p1 }9 [' ]3 M: D
/ W& b7 t3 N9 XVEStudio2.2正式版下载:
% q8 i& f+ H$ @8 U' z, L# ohttp://www.vestudio.cn/data/VEStudio2.2正式版.exe
8 n- E- o& g7 q+ e6 B; Rsp2下载:
  Y6 i" t3 X: o3 j( Khttp://www.vestudio.cn/bbs/dispbbs.asp?boardid=2&Id=1544
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